DPS 2016 » Home



The 38th International Symposium on Dry Process (DPS2016) will be held at Conference Hall, Hokkaido University, Sapporo, Hokkaido, in Japan, on November 21 & 22, 2016.
The Symposium covers all aspects of the rapidly evolving fields of dry processes, including but not limited to plasma etching and deposition processes, diagnostics and modeling of plasmas and surfaces, and surface modifications by plasmas, for the applications in, e.g., microelectronics, power devices, sensors, environmental protection, biological systems, and medicine. The DPS has provided valuable forums for in-depth discussion among professionals and students working in this exciting field for more than three decades.

Important dates

   Abstract Submission Deadline: July 15 July 29, 2016
   Early Registration Deadline: October 14, 2016
   Late Registration Deadline (Online): November 7, 2016

Recent Updates

News for the Special Issues of Japanese Journal of Applied Physics (JJAP).

News for Japanese members

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会の協賛により、「第27回プラズマエレクトロニクス講習会」を 2016年11月28日(金)に東京大学 本郷(浅野)キャンパス 武田先端知ビル 「武田ホール」にて開催致します。
同講習会では、産業応用で必要とされる産業応用で必要とされるプロセスプラズマの生成、診断、制御の基礎と、その先端応用技術について、各分野にて第一線でご活躍の先生方より御講義頂く予定です。詳しくはこちら をご参照ください。